作者简介：苏丹，国家知识产权局专利局电学发明审查部审查员，专利局骨干人才。曾参与《产业专利分析报告：高端存储系统》等多项课题，参与商业方法领域专利保护政策及审查标准研究工作，发表多篇知识产权业务文章。

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通常，专利规避设计可遵循“简化”和“替代”这两项基本原则。简化原则通过对在先专利的技术方案构成要件进行删减，使得改型方案缺少其中一个或多个构件要件以避免专利侵权；替代原则则是通过改变在先方案中的一个或多个构成要件，使得改型方案中一个或多个技术特征与在先专利的技术特征不相同也不等同，从而避免专利侵权。

而材料、化学及医药领域的产品通常为特定组分的组合物或者化合物，其技术方案的构成要件包括产品的组成成分、组分之间的配比、以及产品在通常状态下所呈现出的固态、液态或者气态的形态，规避设计通常会考虑组分及其配比的不同，同时，也尝试采用不同的产品形态，考虑不同的制备工艺。

外观设计类产品多针对产品所呈现的形状、色彩、图案及其组合进行该改型，也可尝试将现有设计应用于不同类别的产品。

针对规避设计进行专利挖掘的首要步骤是明确规避目的、确定规避主题，在此前提下进行针对性的专利检索和技术分析，提出差异性的设计方案，经过方案评估，最终得到规避设计方案和相应的专利申请。

针对规避设计的专利挖掘流程如下图所示：