激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法服务升级

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产品简介:

申请号: CN201510446289.4 公开号: CN201510446289.4
申请日: 2015-12-30 公开日: 2021-11-04
申请人: 优先权日期: 2015-12-30
发明人: 专利分类: 化学、治金
申请人地址: 专利类型: 化学、治金
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代理人: 有效性:
法律状态:

说明书

 本发明提供了一种激光脉冲溅射沉积制备Ni‑Mn‑Co‑In合金薄膜的方法。该合金薄膜的结构通式为Ni50Mn34In16‑XCoX,通式中x=0、2、4、6,该薄膜按如下方法制备:按配比取Ni、Mn、Co、In金属单质作为靶材原料,将靶材原料放置于非自耗真空电弧炉熔内熔炼,电弧炉内抽真空至5×10‑3Pa后,充入保护气,得到圆形靶材;将预处理后的基板和靶材放入真空系统中,抽真空至1.0×10‑4Pa,基板温度为500~700℃,基板与靶材间距离为3~5cm;再用激光器发射激光,控制频率为3~4Hz,溅射1~3小时,制得要求厚度的薄膜;最后将薄膜在800~900℃下退火0.5~3h,制备出Ni50Mn34In16‑XCoX合金薄膜。本发明制备的合金薄膜的成分更精确,粗糙度更低,各向异性强,该合金薄膜韧性好,强度大,制备工艺简单,成本低,易于工业化生产


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