一种高平整度的Ni合金薄膜的制备方法服务升级

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产品简介:

申请号: CN201510446285.6 公开号: CN201510446285.6
申请日: 2015-12-30 公开日: 2021-11-04
申请人: 优先权日期: 2015-12-30
发明人: 专利分类: 化学、治金
申请人地址: 专利类型: 化学、治金
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代理人: 有效性:
法律状态:

说明书

本发明涉及一种高平整度的Ni50Mn34In12Co4合金薄膜的制备方法。包括以下步骤:按照摩尔份数比50:34:12:4分别取Ni、Mn、In、Co金属单质放置于真空非自耗电极电弧炉中熔炼;将电弧炉内抽真空至5×10‑3Pa,充入保护气,得到圆形靶材;将处理后的基板与靶材置于真空系统中,抽真空至1.0×10‑4Pa,基板与靶材距离为3~5cm;再用激光器发射激光,控制频率为3~4Hz,溅射1~3小时,制得要求厚度的薄膜;最后经过800~900℃退火0.5~3h,制备出高平整度的Ni50Mn34In12Co4铁磁性形状记忆合金薄膜。本发明制备的Ni50Mn34In12Co4合金薄膜成分更精确,粗糙度更低,各向异性强;该合金薄膜韧性好、强度大,制备工艺简单,易于工业化生产,对于微智能化和高集成化有着重要的实用价值。


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